制备银纳米粒子的常用方法有物理方法和化学方法。化学方法包括溶胶凝胶法、电镀法、氧化一还原法、静电喷涂法。利用化学方法所得到的银颗粒最小可达几纳米。

　　实验简单、方便，但所得银颗粒不易转移和组装，且杂质含量较高，容易形成团聚大颗粒。

　　物理制备方法主要有真空蒸镀、溅射底和离子镀。

　　溅射镀又包括直流溅射镀、磁控溅射镀、射频溅射镀、反应溅射镀和新发展的微波控制的共溅射镀等。真空蒸发方法是发展最早、应用最广的银纳米粒子的制备方法，其原理简单，操作方便。

　　通过控制蒸发参数可制备几纳米到几十纳米的颗粒，但所得纳米粒子定向生长性差，纳米粒子分散度大，颗粒形状和粒度分布不均匀。

　　溅射方法是20世纪40年代开始发展的制备方法，在现代工业和科学研究中得到广泛应用。溅射方法与蒸发方法一样，操作简单。

　　特别是1970年出现的磁控溅射技术，具有高速、低温两大特点，通过对溅射参数的控制，可以制备出几纳米到几十纳米的颗粒，所得纳米颗粒尺寸小，定向生长性妤，颗粒形状较整齐，粒度小，较均匀。离子镀也是一种新型的制备方法，所制备的纳米颗粒尺寸小，粒子形状整齐，粒度也较均匀，但其设备较昂贵。

　　最新的纳米粒子的制备设备是流动液面真空蒸镀装置，它可制备出0.1nm的团簇粒子，颗粒均匀度很高，是一种非常好的银纳米制备设备，但设备昂贵，不适合运用于工业生产中。

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